本公開涉及一種表面清潔設(shè)備。
背景技術(shù)：
1、濕式表面清潔設(shè)備是指在家庭環(huán)境或辦公環(huán)境下的適用于清潔各種硬質(zhì)表面的清潔設(shè)備。
2、現(xiàn)有的地面清潔器以能夠完全潤濕待清潔的地板的方式以高流量的清潔液對地板實(shí)施清潔。通過使堅(jiān)硬的地板面濕潤，清洗頭將塵埃從地板轉(zhuǎn)移到清潔液中，之后，該清潔液從堅(jiān)硬的地板面被除去，并且作為被污染的清潔液而被保持在回收存儲部內(nèi)。
3、濕式表面清潔設(shè)備通常具備：容納清潔溶液的清潔液存儲部；回收從被清洗的地板回收的污染物的回收存儲部；馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的真空源，以形成從被清洗地板到回收存儲部的抽真空流道；地刷組件，其能夠在待清潔表面移動(dòng)并清潔待清潔表面；可再充電電池，為各部件提供能量；基站，用于濕式表面清潔設(shè)備的充電和清潔后維護(hù)。
4、但是濕式表面清潔設(shè)備在使用時(shí)，由于其清潔部位于整個(gè)濕式表面清潔設(shè)備的前方，在一些使用場合，例如清理墻角等位置時(shí)，無論濕式表面清潔設(shè)備從哪個(gè)方向靠近墻壁，總存在部分區(qū)域無法被清潔，影響了用戶的使用體驗(yàn)。
5、因此，需要重新設(shè)計(jì)一款表面清潔設(shè)備，來解決上述技術(shù)問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為了解決上述技術(shù)問題之一，本公開提供了一種表面清潔設(shè)備。
2、根據(jù)本公開的一個(gè)方面，提供了一種表面清潔設(shè)備，其包括：
3、主體部；
4、電動(dòng)吸力源，所述電動(dòng)吸力源包括真空馬達(dá)，并且電動(dòng)吸力源用于產(chǎn)生真空；
5、供應(yīng)罐，所述供應(yīng)罐設(shè)置于主體部，并用于存儲清潔液體；
6、回收罐，所述回收罐用于與電動(dòng)吸力源連接，電動(dòng)吸力源所產(chǎn)生的真空能夠被施加到回收罐；以及
7、地刷組件，所述地刷組件與主體部樞轉(zhuǎn)連接；
8、其中，所述地刷組件包括：
9、外殼組件，所述外殼組件限定了容納腔室；
10、攪拌器，所述攪拌器可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于外殼組件，并位于容納腔室內(nèi)；供應(yīng)罐內(nèi)存儲的清潔液體經(jīng)由液體分配器被分配至攪拌器，以通過攪拌器的轉(zhuǎn)動(dòng)對待清潔表面進(jìn)行濕式清潔，并且清潔待清潔表面后的污水被回收并儲藏在回收罐；以及
11、清潔頭組件，所述清潔頭組件被驅(qū)動(dòng)以能夠在升高位置和降低位置之間運(yùn)動(dòng)；清潔頭組件在升高位置比在降低位置更遠(yuǎn)離待清潔表面；而且，在降低位置處，清潔頭組件的工作范圍在外殼組件的水平面投影之外，且清潔頭組件的至少部分與待清潔表面接觸；
12、其中，在降低位置處，所述清潔頭組件與待清潔表面接觸部分的內(nèi)側(cè)比攪拌器與待清潔表面接觸面的外側(cè)更接近地刷組件的內(nèi)部。
13、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，攪拌器包括清潔部件，清潔部件的端部與地刷組件的側(cè)壁之間具有第一沿邊距離；清潔頭組件包括清潔元件，當(dāng)清潔頭組件位于降低位置時(shí)，清潔元件的至少部分與待清潔表面接觸，并通過清潔元件與待清潔表面的接觸部分形成工作表面；工作表面的至少部分位于外殼組件的水平面投影之內(nèi)；其中，該工作表面位于地刷組件位于外殼組件的水平面投影之內(nèi)的部分與地刷組件的側(cè)壁之間具有第二沿邊距離，第二沿邊距離大于第一沿邊距離。
14、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述清潔元件呈圓環(huán)形，圓環(huán)形的清潔元件的內(nèi)圓與地刷組件的側(cè)壁之間形成為第二沿邊距離。
15、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述地刷組件還包括：致動(dòng)組件，所述致動(dòng)組件被驅(qū)動(dòng)以能夠在第一位置和第二位置之間運(yùn)動(dòng)，以使得致動(dòng)組件相對于外殼組件的底表面改變高度；其中，當(dāng)致動(dòng)組件位于第一位置時(shí)，所述致動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)清潔頭組件并使得清潔頭組件位于升高位置；當(dāng)致動(dòng)組件位于第二位置時(shí)，所述致動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)清潔頭組件并使得清潔頭組件位于降低位置。
16、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，當(dāng)所述致動(dòng)組件位于第二位置時(shí)，所述致動(dòng)組件能夠被驅(qū)動(dòng)以轉(zhuǎn)動(dòng)，并且所述致動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)所述清潔頭組件轉(zhuǎn)動(dòng)。
17、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述外殼組件限制了避讓部，所述致動(dòng)組件的至少部分設(shè)置于所述避讓部內(nèi)。
18、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述地刷組件包括：第一電機(jī)，所述第一電機(jī)設(shè)置于所述外殼組件，并且用于驅(qū)動(dòng)所述致動(dòng)組件升降和/或旋轉(zhuǎn)。
19、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述清潔頭組件包括轉(zhuǎn)動(dòng)軸線，所述第一電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線與所述清潔頭組件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線平行或大致平行。
20、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述清潔頭組件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線比第一電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線更靠近所述地刷組件的外部。
21、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述第一電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線沿從上至下的方向，向所述地刷組件的外側(cè)傾斜。
22、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述致動(dòng)組件包括：
23、第一支架，所述第一支架能夠接收第一電機(jī)的驅(qū)動(dòng)力，并產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)；以及
24、第二支架，所述第二支架與所述第一支架配合，以當(dāng)所述第二支架在第二位置并且第一支架沿第一方向轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，所述第一支架驅(qū)動(dòng)所述第二支架轉(zhuǎn)動(dòng)；當(dāng)所述第二支架在第二位置并且第一支架沿第二方向轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，所述第一支架驅(qū)動(dòng)所述第二支架從第二位置運(yùn)動(dòng)至第一位置。
25、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述第一支架的外周面設(shè)置有凸塊；所述第二支架的內(nèi)周面形成有螺旋槽，所述凸塊被設(shè)置于所述螺旋槽內(nèi)，并能夠沿所述螺旋槽滑動(dòng)，以使得所述第一支架和第二支架配合。
26、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述致動(dòng)組件還包括：
27、限制元件，所述限制元件設(shè)置于所述第二支架，用于限制第一支架和第二支架之間的相對運(yùn)動(dòng)量。
28、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述限制元件的至少部分用于對第一支架的凸塊進(jìn)行限位。
29、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述致動(dòng)組件還包括：阻尼元件，所述阻尼元件被固定在外殼組件，并且位于第二支架的外部，以使得所述阻尼元件能夠向第二支架施加預(yù)設(shè)阻尼；其中，所述阻尼元件向第二支架施加的阻尼需要滿足第二支架在上升或者下降的過程不會產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，或者即使第二支架在上升或者下降的過程中產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，該第二支架的轉(zhuǎn)動(dòng)速度小于第一支架。
30、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述阻尼元件包括：
31、基部，在基部的側(cè)壁上開設(shè)有槽口；以及
32、阻尼部，所述阻尼部設(shè)置于所述槽口內(nèi)，該阻尼部用于向第二支架施加阻尼。
33、根據(jù)本公開的至少一個(gè)實(shí)施方式的表面清潔設(shè)備，所述阻尼部的兩端通過彈性件連接于槽口的側(cè)壁。
1.一種表面清潔設(shè)備，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，攪拌器包括清潔部件，清潔部件的端部與地刷組件的側(cè)壁之間具有第一沿邊距離；清潔頭組件包括清潔元件，當(dāng)清潔頭組件位于降低位置時(shí)，清潔元件的至少部分與待清潔表面接觸，并通過清潔元件與待清潔表面的接觸部分形成工作表面；工作表面的至少部分位于外殼組件的水平面投影之內(nèi)；其中，該工作表面位于地刷組件位于外殼組件的水平面投影之內(nèi)的部分與地刷組件的側(cè)壁之間具有第二沿邊距離，第二沿邊距離大于第一沿邊距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述清潔元件呈圓環(huán)形，圓環(huán)形的清潔元件的內(nèi)圓與地刷組件的側(cè)壁之間形成為第二沿邊距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述地刷組件還包括：致動(dòng)組件，所述致動(dòng)組件被驅(qū)動(dòng)以能夠在第一位置和第二位置之間運(yùn)動(dòng)，以使得致動(dòng)組件相對于外殼組件的底表面改變高度；其中，當(dāng)致動(dòng)組件位于第一位置時(shí)，所述致動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)清潔頭組件并使得清潔頭組件位于升高位置；當(dāng)致動(dòng)組件位于第二位置時(shí)，所述致動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)清潔頭組件并使得清潔頭組件位于降低位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述致動(dòng)組件位于第二位置時(shí)，所述致動(dòng)組件能夠被驅(qū)動(dòng)以轉(zhuǎn)動(dòng)，并且所述致動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)所述清潔頭組件轉(zhuǎn)動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述外殼組件限制了避讓部，所述致動(dòng)組件的至少部分設(shè)置于所述避讓部內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述地刷組件包括：第一電機(jī)，所述第一電機(jī)設(shè)置于所述外殼組件，并且用于驅(qū)動(dòng)所述致動(dòng)組件升降和/或旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述清潔頭組件包括轉(zhuǎn)動(dòng)軸線，所述第一電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線與所述清潔頭組件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線平行或大致平行。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述清潔頭組件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線比第一電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線更靠近所述地刷組件的外部。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述第一電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線沿從上至下的方向，向所述地刷組件的外側(cè)傾斜。
11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述致動(dòng)組件包括：
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述第一支架的外周面設(shè)置有凸塊；所述第二支架的內(nèi)周面形成有螺旋槽，所述凸塊被設(shè)置于所述螺旋槽內(nèi)，并能夠沿所述螺旋槽滑動(dòng)，以使得所述第一支架和第二支架配合。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述致動(dòng)組件還包括：
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述限制元件的至少部分用于對第一支架的凸塊進(jìn)行限位。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述致動(dòng)組件還包括：阻尼元件，所述阻尼元件被固定在外殼組件，并且位于第二支架的外部，以使得所述阻尼元件能夠向第二支架施加預(yù)設(shè)阻尼；其中，所述阻尼元件向第二支架施加的阻尼需要滿足第二支架在上升或者下降的過程不會產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，或者即使第二支架在上升或者下降的過程中產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，該第二支架的轉(zhuǎn)動(dòng)速度小于第一支架。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述阻尼元件包括：
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述阻尼部的兩端通過彈性件連接于槽口的側(cè)壁。