本發(fā)明涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備制造領(lǐng)域，具體涉及一種兼容式光罩清洗設(shè)備及清洗方法。
背景技術(shù)：
1、在半導(dǎo)體生產(chǎn)制造過程中，光刻、刻蝕以及氧化是其工藝過程中的關(guān)鍵技術(shù)，其中光刻，是通過光線將電路圖案“印刷”到光罩上，光刻膠的涂覆、曝光和顯影是其關(guān)鍵步驟。其中光罩，即光掩膜，作為曝光設(shè)備中的重要元件，在半導(dǎo)體芯片和面板制造過程中，會(huì)使用到各種規(guī)格的光罩，在進(jìn)行“印刷”工序時(shí)，對于光罩的潔凈度具有較高的要求，光罩在使用一段時(shí)間后會(huì)堆積細(xì)小灰塵等，因此需要對光罩進(jìn)行清洗工序。
2、但是，相關(guān)技術(shù)中，清洗池內(nèi)部的藥液處于靜置狀態(tài)，經(jīng)一段時(shí)間后再更換，導(dǎo)致在藥液的使用后期，藥液的濃度降低，清洗效果下降。
3、因此，亟需設(shè)計(jì)一種兼容式光罩清洗設(shè)備及清洗方法，以解決上述藥液的使用后期，藥液的濃度降低，清洗效果下降的技術(shù)問題。
4、需要說明的是，本背景技術(shù)部分中公開的以上信息僅用于理解本實(shí)施例構(gòu)思的背景技術(shù)，并且因此，它可以包含不構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)的信息。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本公開實(shí)施例至少提供一種兼容式光罩清洗設(shè)備及清洗方法。
2、第一方面，本公開實(shí)施例提供了一種兼容式光罩清洗設(shè)備，包括：清洗池，其內(nèi)部適于盛放藥液；
3、所述清洗池的一側(cè)分別安裝有進(jìn)水管和出水管；
4、其中，所述進(jìn)水管與清洗池的底部連通；
5、所述清洗池的底部設(shè)置有底噴淋管；
6、所述清洗池的頂部設(shè)置有頂噴淋管。
7、在一種可選的實(shí)施方式中，所述出水管的直徑大于進(jìn)水管的直徑。
8、在一種可選的實(shí)施方式中，所述清洗池的側(cè)壁頂部具有若干溢流口。
9、在一種可選的實(shí)施方式中，所述清洗設(shè)備還包括甩干裝置，甩干裝置包括定位臺(tái)、甩干座和甩干電機(jī)，載片臺(tái)上具有若干擺放工位，甩干電機(jī)與甩干座傳動(dòng)連接；
10、所述定位臺(tái)上還安裝有甩干箱，甩干箱外罩在載片臺(tái)的外側(cè)。
11、在一種可選的實(shí)施方式中，所述甩干箱的底部還設(shè)置有抽氣管道；
12、所述抽氣管道一端與甩干箱的內(nèi)部連通。
13、在一種可選的實(shí)施方式中，所述清洗設(shè)備還包括翻轉(zhuǎn)裝置，翻轉(zhuǎn)裝置包括兩翻轉(zhuǎn)組件，翻轉(zhuǎn)組件包括翻轉(zhuǎn)板和適于驅(qū)動(dòng)翻轉(zhuǎn)板轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)軸，翻轉(zhuǎn)板的兩端分別安裝有夾爪，夾爪的端部開設(shè)有夾持限位槽。
14、在一種可選的實(shí)施方式中，所述翻轉(zhuǎn)組件還包括夾具底板和兩滑動(dòng)安裝在夾具底板上的夾具定位板；
15、所述轉(zhuǎn)軸與夾具定位板傳動(dòng)連接。
16、在一種可選的實(shí)施方式中，所述清洗設(shè)備還包括設(shè)備框架、導(dǎo)軌、主機(jī)械手和副機(jī)械手，設(shè)備框架外罩在導(dǎo)軌、主機(jī)械手和副機(jī)械手外側(cè)，主機(jī)械手滑動(dòng)設(shè)置在導(dǎo)軌上，副機(jī)械手設(shè)置在清洗池一側(cè)；
17、在一種可選的實(shí)施方式中，主機(jī)械手包括長臂和短臂，所述長臂和短臂上均安裝有主夾具。
18、副機(jī)械手包括副升降桿和安裝在副升降桿端部的副夾具。
19、本公開實(shí)施例還提供了一種光罩清洗方法，應(yīng)用于如上文所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，所述清洗方法包括步驟如下：
20、步驟s1，光罩放入清洗池內(nèi)清洗；
21、步驟s2，進(jìn)水管通過底噴淋管和頂噴淋管向清洗池內(nèi)補(bǔ)充藥液，出水管將清洗池內(nèi)的藥液排出，以使清洗池內(nèi)的藥液保持穩(wěn)定的濃度。
22、本發(fā)明的有益效果是，本發(fā)明通過在清洗池一側(cè)設(shè)置進(jìn)水管和出水管，并通過底噴淋管和頂噴淋管向清洗池內(nèi)補(bǔ)充藥液出水管將清洗池內(nèi)的藥液排出，以使清洗池內(nèi)的藥液保持穩(wěn)定的濃度，避免藥液靜置狀態(tài)下清洗光罩，藥液濃度逐漸降低導(dǎo)致清洗質(zhì)量下降。
23、本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實(shí)施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)在說明書、權(quán)利要求書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)中來實(shí)現(xiàn)和獲得。
24、為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附附圖，作詳細(xì)說明如下。
1.一種兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，包括：
2.如權(quán)利要求1所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
3.如權(quán)利要求1所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
4.如權(quán)利要求1所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
5.如權(quán)利要求4所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
6.如權(quán)利要求4所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
7.如權(quán)利要求1所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
8.如權(quán)利要求7所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
9.如權(quán)利要求1所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
10.如權(quán)利要求9所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
11.如權(quán)利要求9所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，其特征在于，
12.一種光罩清洗方法，其特征在于，應(yīng)用于如權(quán)利要求1-11任一項(xiàng)所述的兼容式光罩清洗設(shè)備，所述清洗方法包括步驟如下：