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中間狀態(tài)微顯示器件、微顯示器件的制作方法

文檔序號:42057515發(fā)布日期:2025-06-04 18:17閱讀:3來源:國知局

本技術(shù)涉及半導(dǎo)體,尤其涉及一種中間狀態(tài)微顯示器件、微顯示器件。


背景技術(shù):

1、目前,多采用光波導(dǎo)形式與micro-led芯片耦合,由于光波導(dǎo)光路較高的光損耗以及需要輸入準(zhǔn)直光的特性,導(dǎo)致最終在顯示端的亮度不盡如人意。因此,通常在micro-led芯片上配置微透鏡,來提升micro-led芯片與光波導(dǎo)系統(tǒng)的耦合效率。

2、傳統(tǒng)微透鏡的制備方案有光刻膠熔融(reflow)、刻蝕、打印、激光直寫、點潤濕、納米壓印等,除刻蝕方案外,基本都是有機材料。有機材料的耐溫性、抗機械形變性能欠佳,而刻蝕方案是結(jié)合光刻膠熔融方案制備微透鏡形貌,利用刻蝕轉(zhuǎn)移圖形,將微透鏡形貌轉(zhuǎn)移至無機材料上,該方案中熔融刻蝕結(jié)構(gòu)容易形變導(dǎo)致良率問題,無機材料的制備和平坦化工藝復(fù)雜且要求較高。

3、因此,亟需提供一種可以避免上述缺陷的新的微透鏡的制備方案。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種中間狀態(tài)微顯示器件、微顯示器件,其無需進行傳統(tǒng)熔融微透鏡形貌掩膜后刻蝕的流程,也無需執(zhí)行表面平坦化和熱回流工藝,工藝簡單、良率高。

2、為實現(xiàn)上述實用新型目的,本實用新型提出如下技術(shù)方案:

3、一方面,提供了一種用于微透鏡制備的中間狀態(tài)微顯示器件,所述中間狀態(tài)微顯示器件,包括:

4、驅(qū)動晶圓;

5、顯示模組,所述顯示模組包括設(shè)于所述驅(qū)動晶圓上的至少兩個像素單元,所述至少兩個像素單元朝遠(yuǎn)離所述驅(qū)動晶圓的方向凸起,所述顯示模組的表面覆設(shè)有由透明介質(zhì)材料構(gòu)成的第一介質(zhì)層,所述第一介質(zhì)層包括覆設(shè)在所述像素單元的頂部的柱狀結(jié)構(gòu),所述柱狀結(jié)構(gòu)用于通過離子束刻蝕,以形成覆設(shè)在所述像素單元頂部的第一微透鏡,所述第一微透鏡刻蝕為球狀結(jié)構(gòu)或圓錐狀結(jié)構(gòu)。

6、在一種可能的實現(xiàn)方式中,所述第一介質(zhì)層還包括:

7、凹槽結(jié)構(gòu),所述凹槽結(jié)構(gòu)填充在相鄰兩個像素單元之間,所述凹槽結(jié)構(gòu)圍合著相鄰兩個像素單元之間的填充縫隙。

8、在一種可能的實現(xiàn)方式中,所述填充縫隙的深度不小于1微米,所述填充縫隙的寬度不小于0.5微米。

9、在一種可能的實現(xiàn)方式中,所述第一介質(zhì)層的厚度不大于像素間距,所述像素間距是相鄰兩個像素單元的邊緣之間的距離。

10、在一種可能的實現(xiàn)方式中,所述第一介質(zhì)層的厚度不小于0.5微米。

11、在一種可能的實現(xiàn)方式中,所述柱狀結(jié)構(gòu)的寬度不小于所述像素單元中有源層的寬度。

12、另一方面,提供了一種微顯示器件,所述微顯示器件通過如上述方面所述的中間狀態(tài)微顯示器件制備而成,所述微顯示器件包括:

13、驅(qū)動晶圓;

14、顯示模組,所述顯示模組包括設(shè)于所述驅(qū)動晶圓上的至少兩個像素單元,所述至少兩個像素單元朝遠(yuǎn)離所述驅(qū)動晶圓的方向凸起,所述顯示模組的表面覆設(shè)有由透明介質(zhì)材料構(gòu)成的第一微透鏡,所述第一微透鏡刻蝕為球狀結(jié)構(gòu)或圓錐狀結(jié)構(gòu),所述第一微透鏡是對覆設(shè)在所述像素單元的頂部的柱狀結(jié)構(gòu)進行離子束刻蝕形成。

15、在一種可能的實現(xiàn)方式中,所述微顯示器件還包括:

16、第二微透鏡,所述第二微透鏡覆設(shè)在所述第一微透鏡的外表面上。

17、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型具有如下有益效果:

18、提供了一種用于微透鏡制備的中間狀態(tài)微顯示器件,其在驅(qū)動晶圓上設(shè)置顯示模組,顯示模組的表面覆設(shè)有由透明介質(zhì)材料構(gòu)成的第一介質(zhì)層,第一介質(zhì)層包括沉積在像素單元頂部的柱狀結(jié)構(gòu),此柱狀結(jié)構(gòu)可以直接通過離子束刻蝕,進一步轉(zhuǎn)變?yōu)榍驙罱Y(jié)構(gòu)或圓錐狀結(jié)構(gòu)的第一微透鏡,微透鏡為全無機材料,耐高溫、抗機械形變能力強,且無需進行傳統(tǒng)熔融微透鏡形貌掩膜后刻蝕的流程,也無需執(zhí)行表面平坦化和熱回流工藝,工藝簡單、良率高。

19、進一步的,還可以通過在第一微透鏡上繼續(xù)覆蓋透明介質(zhì)材料,通過透明介質(zhì)材料的厚度靈活調(diào)控微透鏡尺寸,量產(chǎn)操作便利。



技術(shù)特征:

1.一種用于微透鏡制備的中間狀態(tài)微顯示器件,其特征在于,所述中間狀態(tài)微顯示器件,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中間狀態(tài)微顯示器件,其特征在于,所述第一介質(zhì)層還包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的中間狀態(tài)微顯示器件,其特征在于,

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中間狀態(tài)微顯示器件,其特征在于,

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中間狀態(tài)微顯示器件,其特征在于,

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中間狀態(tài)微顯示器件,其特征在于,

7.一種微顯示器件,其特征在于,所述微顯示器件通過如權(quán)利要求1至6任意一項所述的中間狀態(tài)微顯示器件制備而成,所述微顯示器件包括:

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的微顯示器件,其特征在于,所述微顯示器件還包括:


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開一種中間狀態(tài)微顯示器件、微顯示器件,涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。該中間狀態(tài)微顯示器件,包括:驅(qū)動晶圓;顯示模組,所述顯示模組包括設(shè)于所述驅(qū)動晶圓上的至少兩個像素單元,所述至少兩個像素單元朝遠(yuǎn)離所述驅(qū)動晶圓的方向凸起,所述顯示模組的表面覆設(shè)有由透明介質(zhì)材料構(gòu)成的第一介質(zhì)層,所述第一介質(zhì)層包括覆設(shè)在所述像素單元的頂部的柱狀結(jié)構(gòu),所述柱狀結(jié)構(gòu)用于通過離子束刻蝕,以形成覆設(shè)在所述像素單元頂部的第一微透鏡,所述第一微透鏡刻蝕為球狀結(jié)構(gòu)或圓錐狀結(jié)構(gòu)?;诒旧暾?zhí)峁┑募夹g(shù)方案,微透鏡的制備無需進行傳統(tǒng)熔融微透鏡形貌掩膜后刻蝕的流程,也無需執(zhí)行表面平坦化和熱回流工藝,工藝簡單、良率高。

技術(shù)研發(fā)人員:楊志祥,梁錦,朱酉良,顏改革
受保護的技術(shù)使用者:諾視科技(浙江)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240709
技術(shù)公布日:2025/6/3
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