技術(shù)編號(hào)：9766819
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 隨著較大平板顯示器與太陽(yáng)能面板的需求持續(xù)增加，因此基板與處理腔室的尺寸 必然得提高。隨著處理腔室尺寸提高，有時(shí)需要較高的RF電流以補(bǔ)償RF電流的消散(隨著RF 電流移動(dòng)離開(kāi)RF源而發(fā)生）。一種沉積材料于平板顯示器或太陽(yáng)能面板的基板上的方法是 等離子體增強(qiáng)化學(xué)汽相沉積(PECVD)。等離子體增強(qiáng)化學(xué)汽相沉積中，可透過(guò)噴頭將處理氣 體導(dǎo)入處理腔室并由施加至噴頭的RF電流點(diǎn)燃成等離子體。隨著基板尺寸提高，施加至噴 頭的RF電流也對(duì)應(yīng)地增加。隨著RF電流的增加，...
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