技術(shù)編號：9769286
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。等離子體處理是制造半導(dǎo)體器件不可缺少的技術(shù)。近年來，出于LSI的高集成化以及高速化的要求，構(gòu)成LSI的半導(dǎo)體元件要求進(jìn)一步的細(xì)微加工。然而，在容量耦合型等離子體處理裝置、感應(yīng)耦合型等離子體處理裝置中，所生成的等離子體的電子溫度較高、且等離子體密度較高的區(qū)域被限定。因此，難以實(shí)現(xiàn)可滿足半導(dǎo)體元件的進(jìn)一步的細(xì)微加工的要求的等離子體處理。因而，為了實(shí)現(xiàn)這種細(xì)微加工，需要生成低電子溫度且高等離子體密度的等離子體。為了滿足這需要，提出有如下這樣的裝置利用微波在處理容...
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