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等離子體處理裝置的制造方法技術資料下載

技術編號:9845325

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本發(fā)明用于在等離子體處理裝置內(nèi)部堅固地固定基板托盤,特別涉及一種等離子體處理裝置,能夠應用于在室的下部形成有等離子體的方式的等離子體處理裝置,把基板托盤固定于室內(nèi)。背景技術—般而言,在用于半導體的晶片及要求精密的薄膜加工工序中,使用利用了等離子體的蝕刻和沉積法,提尚制品的精密度。如此產(chǎn)生等離子體的等離子體處理裝置,由形成外形的室和安裝于室的外側(cè)的天線及使晶片放置于室內(nèi)部的卡盤構(gòu)成。由此,所述的天線供應高頻,借助于高頻而在室內(nèi)部形成有等離子體,對放置于卡盤的...
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