大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，包括臥置的抗壓殼體，抗壓殼體的一端封閉，另一端設有密封門，在抗壓殼體內(nèi)設有與高頻電源連接的電極板，所述電極板為中空平面電極，所述中空平面電極的一側(cè)面設有與進氣管連接的進氣口，另一相對側(cè)面設有出氣口。本實用新型的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，可均勻處理等離子體金屬內(nèi)表面，保證產(chǎn)品質(zhì)量，提高生產(chǎn)效率。
【專利說明】
大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種金屬表面處理裝置，尤其涉及一種大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置。
【背景技術】
[0002]中國專利ZL200920051678.7公開了一種“臥式等離子體大型筒狀金屬內(nèi)表面加工裝置”，解決了利用等離子體技術在大型筒狀金屬部件內(nèi)表面沉積一層陶瓷合金的強化技術問題。但該裝置的進氣系統(tǒng)置于金屬筒外層，工作氣體繞道擴散到達需要進行強化處理的筒狀金屬部件的內(nèi)表面。這樣，一方面造成只有一部分源氣體被利用，在放電區(qū)域被激活、電離，產(chǎn)生等離子體，一部分源氣體被直接抽出真空室，造成源氣體的浪費；另一方面，這樣進氣，源氣體在金屬筒的內(nèi)表面流場不均勻，造成處理不均勻。這些問題均嚴重地影響產(chǎn)品的質(zhì)量，同時也造成生產(chǎn)效率的低下。因此，有必要對裝置進行改造，以適合對金屬筒部件的內(nèi)表面進行有效加工。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的是提供一種大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，可均勻處理等離子體金屬表面，保證產(chǎn)品質(zhì)量，提高生產(chǎn)效率。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供一種大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，包括臥置的抗壓殼體，抗壓殼體的一端封閉，另一端設有密封門，在抗壓殼體內(nèi)設有與高頻電源連接的電極板，所述電極板為中空平面電極，所述中空平面電極的一側(cè)面設有與進氣管連接的進氣口，另一相對側(cè)面設有出氣口。
[0005]作為本實用新型的進一步改進，還包括一端開口另一端封閉并且側(cè)面呈蜂窩狀開孔的筒狀電極，所述筒狀電極的開口端與中空平面電極的出氣口對接。
[0006]作為本實用新型的更進一步改進，所述出氣口有多個并且均勻分布，各出氣口處安裝有一所述筒狀電極。
[0007]作為本實用新型的更進一步改進，所述筒狀電極的軸線位于水平方向上，中空平面電極位于垂直方向上，筒狀電極與中空平面電極基本垂直。
[0008]作為本實用新型的進一步改進，在所述抗壓殼體內(nèi)設有沿抗壓殼體軸向延伸的導軌，在導軌上設有沿導軌移動的承載托盤，中空平面電極設置在沿導軌移動的小車上，中空平面電極上還設有上下移動機構。
[0009]作為本實用新型的更進一步改進，所述小車設有行走驅(qū)動機構。
[0010]作為本實用新型的進一步改進，所述抗壓殼體內(nèi)部為圓形真空室或矩形真空室。
[0011]與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置的有益效果如下:
[0012](I)利用中空平面電極噴氣對金屬筒進行加工，可使得氣體在金屬筒表面流場更加均勻，對金屬筒的處理更均勻，保證產(chǎn)品質(zhì)量，提高生產(chǎn)效率。
[0013](2)在中空平面電極的基礎上增加筒狀電極，可以對較長的金屬筒進行處理，并且還能保證其質(zhì)量。
[0014](3)出氣口有多個并且均勻分布，從而可進一步使得氣體在金屬筒表面流場更加均勻，以保證產(chǎn)品質(zhì)量。
[0015](4)結(jié)構簡單，處理效率高。
[0016]通過以下的描述并結(jié)合附圖，本實用新型將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本實用新型的實施例。
【附圖說明】
[0017]圖1為實施例一的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置的使用狀態(tài)圖。
[0018]圖2為實施例一的電極板和筒狀電極結(jié)合時的不意圖。
[0019]圖3為實施例一的筒狀電極的示意圖。
[0020]圖4為實施例二的電極板的示意圖
【具體實施方式】
[0021]現(xiàn)在參考附圖描述本實用新型的實施例，附圖中類似的元件標號代表類似的元件。
[0022]實施例一
[0023]請參考圖1-3，所述的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置包括臥置的抗壓殼體I，所述抗壓殼體I內(nèi)部為圓形真空室或矩形真空室。所述抗壓殼體I的一端封閉，另一端設有密封門2，在所述抗壓殼體I內(nèi)設有沿抗壓殼體I軸向延伸的導軌3，在導軌3上設有沿導軌3移動的承載托盤4，在抗壓殼體I內(nèi)設有與高頻電源連接的電極板5，所述電極板5為中空平面電極，所述中空平面電極的一側(cè)面設有與進氣管連接的進氣口 51，用于向電極板5內(nèi)輸送工作氣體，另一相對側(cè)面設有出氣口 52。所述的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置還包括一端開口另一端封閉并且側(cè)面呈蜂窩狀開孔的筒狀電極6，所述筒狀電極6的開口端與中空平面電極的出氣口 52對接。
[0024]所述出氣口52有多個并且均勻分布，各出氣口 52處安裝有一所述筒狀電極6。所述筒狀電極6的軸線位于水平方向上，中空平面電極位于垂直方向上，筒狀電極6與中空平面電極基本垂直。中空平面電極設置在沿導軌3移動的小車7上，所述小車7設有行走驅(qū)動機構，行走驅(qū)動機構可采用現(xiàn)有技術中常用的液壓傳動機構，這樣方便筒狀電極6的前后移動。所述中空平面電極上還設有上下移動機構8，上下移動機構8可采用現(xiàn)有技術中常用的電機螺桿直線移動機構。在抗壓殼體I上還設有與真空栗連接的抽氣管9，用于對抗壓殼體I內(nèi)抽真空。在抗壓殼體I的下部還連接有與抽氣機連接的工作氣體出氣管。
[0025]具體使用時，將較長的待加工的筒形金屬工件13固定在承載托盤4上，然后將承載托盤4推入抗壓殼體I內(nèi)，調(diào)整筒狀電極6和小車7的位置，使筒狀電極6伸入待處理的筒形金屬工件10內(nèi)的適當位置，然后將負電極與筒形金屬工件10連接，關閉密封門2后即可進行抽真空、高頻放電、通入工作氣體，進行筒形金屬工件10內(nèi)表面的BN-SiN層沉積加工。
[0026]實施例二
[0027]請參考圖4，本實施例與上述實施例一的區(qū)別僅在于:在本實施例中僅使用電極板5，而不使用筒狀電極6，僅使用電極板5時，用于對較短的金屬工件的外表面進行BN-SiN層沉積加工。
[0028]以上結(jié)合最佳實施例對本實用新型進行了描述，但本實用新型并不局限于以上揭示的實施例，而應當涵蓋各種根據(jù)本實用新型的本質(zhì)進行的修改、等效組合。
【主權項】
1.一種大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，包括臥置的抗壓殼體，抗壓殼體的一端封閉，另一端設有密封門，在抗壓殼體內(nèi)設有與高頻電源連接的電極板，其特征在于:所述電極板為中空平面電極，所述中空平面電極的一側(cè)面設有與進氣管連接的進氣口，另一相對側(cè)面設有出氣口。2.如權利要求1所述的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，其特征在于:還包括一端開口另一端封閉并且側(cè)面呈蜂窩狀開孔的筒狀電極，所述筒狀電極的開口端與中空平面電極的出氣口對接。3.如權利要求2所述的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，其特征在于:所述出氣口有多個并且均勻分布，各出氣口處安裝有一所述筒狀電極。4.如權利要求2所述的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，其特征在于:所述筒狀電極的軸線位于水平方向上，中空平面電極位于垂直方向上，筒狀電極與中空平面電極基本垂直。5.如權利要求1所述的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，其特征在于:在所述抗壓殼體內(nèi)設有沿抗壓殼體軸向延伸的導軌，在導軌上設有沿導軌移動的承載托盤，中空平面電極設置在沿導軌移動的小車上，中空平面電極上還設有上下移動機構。6.如權利要求5所述的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，其特征在于:所述小車設有行走驅(qū)動機構。7.如權利要求1所述的大容量臥式等離子體金屬表面加工裝置，其特征在于:所述抗壓殼體內(nèi)部為圓形真空室或矩形真空室。
【文檔編號】C23C16/34GK205473977SQ201620101793
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年2月1日
【發(fā)明人】吳曉明
【申請人】吳曉明