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投影顯示裝置及其光學遮蔽件的制作方法

文檔序號:42592320發(fā)布日期:2025-07-29 17:44閱讀:12來源:國知局

本案關于一種投影顯示裝置,尤指一種具有光學遮蔽件的投影顯示裝置。


背景技術:

1、目前,數(shù)字光處理(digital?light?processing,dlp)顯像技術已經被廣泛地使用于投影顯示設備中。一般而言,在數(shù)字光處理的投影顯示設備中,圖像是由數(shù)字微鏡裝置(digital?micromirror?device,dmd)反射光線所產生的。

2、傳統(tǒng)的數(shù)字微鏡裝置包含基板及多個微型反射鏡片,其中多個微型反射鏡片陣列地設置于基板上,且架構形成數(shù)字微鏡裝置的第一區(qū)域。每一個微型反射鏡片控制投影圖像中的一個像素。數(shù)字微鏡裝置的第二區(qū)域形成于基板未設置微型反射鏡片的部分。當入射光照射于數(shù)字微鏡裝置時,數(shù)字微鏡裝置的第一區(qū)域的微型反射鏡片反射光線,并投影成圖像。然而,入射光亦同時照射于數(shù)字微鏡裝置的第二區(qū)域,使第二區(qū)域反射光線而形成雜散光,該雜散光將造成干擾而導致投影成像品質不佳。

3、有鑒于此,實有必要發(fā)展一種投影顯示裝置及其光學遮蔽件,以解決現(xiàn)有技術所面臨的問題。


技術實現(xiàn)思路

1、本案的目的在于提供一種投影顯示裝置及其光學遮蔽件,其可減少雜散光的產生,以提升投影成像品質。

2、為達前述目的,本案的一廣義實施態(tài)樣為提供一種光學遮蔽件,適用于一投影顯示裝置,其中投影顯示裝置包含發(fā)光單元及數(shù)字微鏡裝置。發(fā)光單元以一入射光投射至數(shù)字微鏡裝置,使數(shù)字微鏡裝置反射入射光,并投影成像。光學遮蔽件包含框體及鍍膜層??蝮w包含本體及中空部。本體環(huán)繞形成中空部。本體包含第一表面、第二表面、內側表面及缺口。第一表面及第二表面為本體的兩相對表面。內側表面連接于第一表面,并且對應中空部設置。本體的第二表面貼附于數(shù)字微鏡裝置上。缺口由內側表面朝向遠離中空部的方向凹陷形成。鍍膜層設置于本體的第一表面。鍍膜層的粗糙度小于500納米,鍍膜層對于入射光的反射率小于5%,以及鍍膜層對于入射光的穿透率小于1%。

3、為達前述目的,本案的另一廣義實施態(tài)樣為提供一種投影顯示裝置,包含數(shù)字微鏡裝置、發(fā)光單元及光學遮蔽件。數(shù)字微鏡裝置包含基板及多個微型反射鏡片。多個微型反射鏡片陣列地設置于基板上,形成數(shù)字微鏡裝置的第一區(qū)域。數(shù)字微鏡裝置的第二區(qū)域形成于基板未設置微型反射鏡片的部分。發(fā)光單元架構于將入射光投射至數(shù)字微鏡裝置,使數(shù)字微鏡裝置的第一區(qū)域的多個微型反射鏡片反射入射光,而投影成像。光學遮蔽件設置于數(shù)字微鏡裝置,且包含框體及鍍膜層,其中框體包含一本體及一中空部,本體環(huán)繞形成中空部。本體包含第一表面、第二表面、內側表面及缺口。第一表面及第二表面為本體的兩相對表面。內側表面連接于第一表面,并且對應中空部設置。本體的第二表面貼附于數(shù)字微鏡裝置上。缺口由內側表面朝向遠離中空部的方向凹陷形成。鍍膜層設置于本體的第一表面。鍍膜層的粗糙度小于500納米,鍍膜層對于入射光的反射率小于5%,以及鍍膜層對于入射光的穿透率小于1%。



技術特征:

1.一種光學遮蔽件,適用于一投影顯示裝置,其中該投影顯示裝置包含一發(fā)光單元及一數(shù)字微鏡裝置,該發(fā)光單元以一入射光投射至該數(shù)字微鏡裝置,使該數(shù)字微鏡裝置反射該入射光,并投影成像,其特征在于,該光學遮蔽件包含:

2.如權利要求1所述的光學遮蔽件,其特征在于,該鍍膜層為一黑色鍍膜層。

3.如權利要求1所述的光學遮蔽件,其特征在于,該框體的該本體為一不透光板件,且由一金屬材料制成,其中該金屬材料為鋁或鋁合金構成。

4.如權利要求1所述的光學遮蔽件,其特征在于,該缺口為一扇形截面缺口、一三角形截面缺口、一矩形截面缺口、一多邊形截面缺口或一不規(guī)則形截面缺口。

5.如權利要求1所述的光學遮蔽件,其特征在于,該框體為一矩形框體,且該框體的該本體包括一第一側板、一第二側板、一第三側板及一第四側板,其中該第一側板與該第二側板相對設置,該第三側板與該第四側板相對設置,該第三側板的兩端分別連接于該第一側板與該第二側板,該第四側板的兩端分別連接于該第一側板與該第二側板,其中該第一側板、該第二側板、該第三側板及該第四側板環(huán)繞形成該中空部。

6.一種投影顯示裝置,其特征在于,包含:

7.如權利要求6所述的投影顯示裝置,其特征在于,該光學遮蔽件的該鍍膜層為一黑色鍍膜層。

8.如權利要求6所述的投影顯示裝置,其特征在于,該本體對應于該數(shù)字微鏡裝置的該第二區(qū)域設置,該中空部對應于該數(shù)字微鏡裝置的該第一區(qū)域設置,其中該光學遮蔽件的該中空部的面積大于或等于該數(shù)字微鏡裝置的該第一區(qū)域的面積。

9.如權利要求6所述的投影顯示裝置,其特征在于,該框體的該本體為一不透光板件,且由一金屬材料制成,其中該金屬材料為鋁或鋁合金構成。

10.如權利要求6所述的投影顯示裝置,其特征在于,該缺口為一扇形截面缺口、一三角形截面缺口、一矩形截面缺口、一多邊形截面缺口或一不規(guī)則形截面缺口。


技術總結
本案關于一種光學遮蔽件,適用于投影顯示裝置。投影顯示裝置包含發(fā)光單元及數(shù)字微鏡裝置。發(fā)光單元以入射光投射至數(shù)字微鏡裝置,使數(shù)字微鏡裝置反射入射光,并投影成像。光學遮蔽件包含框體及鍍膜層??蝮w包含本體及中空部。本體環(huán)繞形成中空部。本體包含內側表面及缺口。內側表面對應中空部設置??蝮w貼附于數(shù)字微鏡裝置上。缺口由內側表面朝向遠離中空部的方向凹陷形成。鍍膜層設置于框體的本體。鍍膜層的粗糙度小于500納米,鍍膜層對于入射光的反射率小于5%,以及鍍膜層對于入射光的穿透率小于1%。

技術研發(fā)人員:林宏英,周彥伊
受保護的技術使用者:臺達電子工業(yè)股份有限公司
技術研發(fā)日:
技術公布日:2025/7/28
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