本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜，具體而言，涉及一種高透光率的復(fù)合防窺膜及其制備方法。

背景技術(shù)：

1、隨著電子通訊技術(shù)的飛速發(fā)展，智能手機(jī)、平板電腦、筆記本電腦等電子設(shè)備廣泛普及。人們?cè)谑褂眠@些設(shè)備時(shí)，常常會(huì)在公開場(chǎng)合處理各種敏感信息，如銀行賬戶信息、個(gè)人聊天記錄、商業(yè)機(jī)密等。因此，用戶對(duì)隱私安全的關(guān)注程度不斷提高，越來越多的人希望能夠保護(hù)自己設(shè)備屏幕上的信息不被他人窺視，這就促使了防窺膜產(chǎn)業(yè)的興起。

2、傳統(tǒng)的防窺膜技術(shù)包括鏡面膜和磨砂膜，鏡面膜具有高反光度，能使屏幕更為明亮，在一定程度上提升了視覺效果。然而，其耐磨性較差，日常使用中容易留下指紋、劃痕等使用痕跡。隨著磨損的加劇，內(nèi)部的功能層可能會(huì)受損脫落，導(dǎo)致防窺功能失效。而磨砂膜雖然耐磨性能較強(qiáng)，能夠較好地抵御日常使用中的摩擦和刮擦，但它的透光率較差，會(huì)使屏幕顯示效果變得模糊、暗淡，降低了使用舒適度。為了看清屏幕內(nèi)容，用戶往往需要調(diào)高屏幕亮度，這不僅增加了眼睛的疲勞感，還會(huì)導(dǎo)致電子產(chǎn)品耗電量增大。

3、因此，有必要設(shè)計(jì)一種高透光率的復(fù)合防窺膜及其制備方法，用以解決傳統(tǒng)防窺膜技術(shù)中存在的防窺效果低、透光率差和增加眼疲勞的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于此，本發(fā)明提出了一種高透光率的復(fù)合防窺膜及其制備方法，旨在解決傳統(tǒng)防窺膜技術(shù)中存在的防窺效果低、透光率差和增加眼疲勞的問題。

2、一個(gè)方面，本發(fā)明提出了一種高透光率的復(fù)合防窺膜的制備方法，包括：

3、獲取高分子聚合物與吸光材料基礎(chǔ)信息，篩選聚合物合成抗氧樹脂并記錄其化學(xué)穩(wěn)定性參數(shù)；

4、基于官能團(tuán)設(shè)計(jì)制備吸光材料，所述抗氧樹脂和吸光材料經(jīng)機(jī)械攪拌與超聲分散形成混合材料體系；

5、利用激光干涉光刻技術(shù)進(jìn)行光柵成型，所述光柵成型通過調(diào)整參數(shù)在混合材料體系表面刻蝕光柵結(jié)構(gòu)，記錄激光能量密度與光柵尺寸精度的關(guān)系數(shù)據(jù)，所述光柵成型調(diào)整的參數(shù)包括激光波長、干涉角度和曝光時(shí)間；

6、采用微流控注射技術(shù)控制注射壓力和速度將折射率材料注入光柵間隙，形成防窺層；

7、使用熱壓真空貼合技術(shù)，將防窺層與其他功能層在設(shè)定溫度、壓力和真空度下貼合，記錄各層界面結(jié)合力數(shù)據(jù)。

8、進(jìn)一步地，在記錄激光能量密度與光柵尺寸精度的關(guān)系數(shù)據(jù)后，還包括：基于所述關(guān)系數(shù)據(jù)建立光柵刻蝕精度評(píng)估模型，根據(jù)所述光柵刻蝕精度評(píng)估模型確定激光能量密度與光柵尺寸精度的對(duì)應(yīng)等級(jí)，根據(jù)所述對(duì)應(yīng)等級(jí)對(duì)激光干涉光刻技術(shù)的參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化調(diào)整；

9、根據(jù)優(yōu)化調(diào)整后的參數(shù)進(jìn)行新一輪光柵刻蝕實(shí)驗(yàn)，獲取新的激光能量密度與光柵尺寸精度數(shù)據(jù)，將所述新的激光能量密度與光柵尺寸精度數(shù)據(jù)與歷史數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比分析，確定參數(shù)調(diào)整對(duì)光柵刻蝕精度的影響趨勢(shì)，根據(jù)所述影響趨勢(shì)對(duì)光柵刻蝕精度評(píng)估模型進(jìn)行迭代優(yōu)化；

10、根據(jù)迭代優(yōu)化后的評(píng)估模型和參數(shù)，進(jìn)行規(guī)?；墓鈻趴涛g生產(chǎn)，并實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)刻蝕過程中的參數(shù)波動(dòng)，當(dāng)參數(shù)波動(dòng)超過預(yù)設(shè)閾值時(shí)，自動(dòng)觸發(fā)參數(shù)修正機(jī)制。

11、進(jìn)一步地，根據(jù)所述光柵刻蝕精度評(píng)估模型確定激光能量密度與光柵尺寸精度的對(duì)應(yīng)等級(jí)時(shí)，包括：

12、預(yù)先設(shè)定第一精度閾值d1、第二精度閾值d2、第三精度閾值d3，且d1＜d2＜d3；

13、預(yù)先設(shè)定第一能量密度區(qū)間e1、第二能量密度區(qū)間e2、第三能量密度區(qū)間e3；

14、根據(jù)所述光柵尺寸精度與各預(yù)設(shè)閾值的關(guān)系，確定對(duì)應(yīng)等級(jí)及激光能量密度區(qū)間；

15、當(dāng)光柵尺寸精度＜d1時(shí)，則確定激光能量密度與光柵尺寸精度的對(duì)應(yīng)等級(jí)為第一等級(jí)，所述第一等級(jí)對(duì)應(yīng)第一能量密度區(qū)間e1；

16、當(dāng)d1≤光柵尺寸精度＜d2時(shí)，則確定激光能量密度與光柵尺寸精度的對(duì)應(yīng)等級(jí)為第二等級(jí)，所述第二等級(jí)對(duì)應(yīng)第二能量密度區(qū)間e2；

17、當(dāng)d2≤光柵尺寸精度時(shí)，則確定激光能量密度與光柵尺寸精度的對(duì)應(yīng)等級(jí)為第三等級(jí)，所述第三等級(jí)對(duì)應(yīng)第三能量密度區(qū)間e3。

18、進(jìn)一步地，在確定對(duì)應(yīng)等級(jí)及能量密度區(qū)間后，所述根據(jù)所述對(duì)應(yīng)等級(jí)對(duì)激光干涉光刻技術(shù)的參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化調(diào)整，包括：

19、預(yù)先設(shè)定第一調(diào)整策略p1、第二調(diào)整策略p2、第三調(diào)整策略p3；

20、當(dāng)對(duì)應(yīng)等級(jí)為第一等級(jí)時(shí)，采用第一調(diào)整策略p1，所述第一調(diào)整策略p1將激光波長縮短5％，干涉角度增大10°，曝光時(shí)間減少15％；

21、當(dāng)對(duì)應(yīng)等級(jí)為第二等級(jí)時(shí)，采用第二調(diào)整策略p2，所述第二調(diào)整策略p2微調(diào)激光波長±2％，干涉角度±5°，曝光時(shí)間±8％；

22、當(dāng)對(duì)應(yīng)等級(jí)為第三等級(jí)時(shí)，采用第三調(diào)整策略p3，所述第三調(diào)整策略p3維持當(dāng)前參數(shù)或僅進(jìn)行±1％的微調(diào)。

23、進(jìn)一步地，將所述新的激光能量密度與光柵尺寸精度數(shù)據(jù)與歷史數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比分析，確定參數(shù)調(diào)整對(duì)光柵刻蝕精度的影響趨勢(shì)時(shí)，包括：

24、預(yù)先設(shè)定精度變化閾值△d1、△d2，且△d1＜△d2；

25、計(jì)算所述新的激光能量密度與光柵尺寸精度數(shù)據(jù)與歷史數(shù)據(jù)的光柵尺寸精度差值△d；

26、當(dāng)△d≥△d2時(shí)，判定參數(shù)調(diào)整對(duì)精度有顯著正向影響；

27、當(dāng)△d1≤△d＜△d2時(shí)，判定參數(shù)調(diào)整有輕微正向影響；

28、當(dāng)△d＜△d1時(shí)，判定參數(shù)調(diào)整無明顯影響或存在負(fù)向影響。

29、進(jìn)一步地，所述根據(jù)所述影響趨勢(shì)對(duì)光柵刻蝕精度評(píng)估模型進(jìn)行迭代優(yōu)化，包括：

30、當(dāng)判定參數(shù)調(diào)整有顯著正向影響時(shí)，將當(dāng)前調(diào)整后的參數(shù)區(qū)間納入評(píng)估模型核心參數(shù)；

31、當(dāng)判定有輕微正向影響時(shí)，調(diào)整模型中相關(guān)參數(shù)的權(quán)重系數(shù)；

32、當(dāng)判定無明顯影響或存在負(fù)向影響時(shí)，重新校準(zhǔn)模型閾值，并排除無效參數(shù)組合。

33、進(jìn)一步地，所述實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)刻蝕過程中的參數(shù)波動(dòng)時(shí)，包括：預(yù)先設(shè)定激光波長波動(dòng)閾值△λ、干涉角度波動(dòng)閾值△θ和曝光時(shí)間波動(dòng)閾值△t；

34、當(dāng)激光波長波動(dòng)超過△λ時(shí)，觸發(fā)波長自動(dòng)校準(zhǔn)程序；

35、當(dāng)干涉角度波動(dòng)超過△θ時(shí)，啟動(dòng)角度微調(diào)機(jī)械裝置；

36、當(dāng)曝光時(shí)間波動(dòng)超過△t時(shí)，調(diào)整控制系統(tǒng)計(jì)時(shí)參數(shù)。

37、進(jìn)一步地，所述自動(dòng)觸發(fā)參數(shù)修正機(jī)制時(shí)，包括：預(yù)先設(shè)定修正系數(shù)k1、k2、k3；

38、當(dāng)參數(shù)波動(dòng)超過閾值且持續(xù)時(shí)間≤5分鐘時(shí)，采用k1進(jìn)行線性修正；

39、當(dāng)波動(dòng)持續(xù)5-15分鐘時(shí)，采用k2進(jìn)行非線性修正；

40、當(dāng)波動(dòng)超過15分鐘時(shí)，暫停生產(chǎn)并進(jìn)行設(shè)備全面檢測(cè)與參數(shù)重置。

41、進(jìn)一步地，在采用微流控注射技術(shù)注入填充材料后，還包括：預(yù)先設(shè)定填充密度標(biāo)準(zhǔn)ρ0、氣泡率閾值α0；

42、檢測(cè)填充材料的實(shí)際密度ρ及氣泡率α；

43、當(dāng)滿足ρ＜ρ0、α＞α0其中任一條件時(shí)，啟動(dòng)二次補(bǔ)注程序；

44、當(dāng)同時(shí)滿足ρ≥ρ0、α≤α0兩個(gè)條件時(shí)，進(jìn)入熱壓真空貼合工序。

45、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果在于：機(jī)械攪拌與超聲分散結(jié)合的分散方式，確保吸光材料在抗氧樹脂中均勻分布，保障材料性能均一性；激光干涉光刻技術(shù)精準(zhǔn)控制光柵尺寸精度，微流控注射技術(shù)精確填充光柵間隙，熱壓真空貼合技術(shù)保證各功能層間具有良好的界面結(jié)合力，一系列創(chuàng)新工藝大幅提升了防窺膜的制造精度與質(zhì)量穩(wěn)定性，降低產(chǎn)品缺陷率。

46、另一方面，本技術(shù)還提供了一種高透光率的復(fù)合防窺膜，由所述的高透光率的復(fù)合防窺膜的制備方法制備而成。

47、可以理解的是，上述一種高透光率的復(fù)合防窺膜及其制備方法具備相同的有益效果，在此不再贅述。