本發(fā)明涉及半導體設備，特別涉及一種加熱臺升降裝置及半導體設備。

背景技術(shù)：

1、在薄膜工藝設備中，加熱臺的高度控制以及加熱臺與噴淋盤之間的位置精度對工藝效果起著關(guān)鍵作用。當前多數(shù)設備依賴電機驅(qū)動的升降裝置來精準調(diào)控加熱臺高度，同時需確保其與噴淋盤的同軸度和平面度，以此保障流氣均勻性。然而，現(xiàn)有加熱臺升降裝置存在明顯缺陷：其一，采用單滑塊直線模組偏置驅(qū)動方式，在大氣與真空狀態(tài)轉(zhuǎn)換時，因壓力差致使受力不均，引發(fā)真空環(huán)境下同軸度出現(xiàn)偏差；其二，現(xiàn)有的加熱臺升降裝置通常使用3個頂絲進行調(diào)節(jié)，而在使用3個頂絲進行調(diào)整時，存在坐標系合成干擾問題，例如120度方向的兩個頂絲會同時影響x/y兩個方向的調(diào)整結(jié)果，這就大幅增加了操作難度。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明實施例提供了一種加熱臺升降裝置及半導體設備，旨在增強加熱臺的升降控制效果，進而提高薄膜工藝設備的加工性能。

2、本發(fā)明實施例提供了一種加熱臺升降裝置，用于驅(qū)動加熱臺升降，所述加熱臺固定安裝于升降底座上，所述裝置包括：

3、驅(qū)動機構(gòu)，與所述升降底座連接，用于驅(qū)動所述升降底座上下運動；

4、導軌機構(gòu)，包括豎向?qū)ΨQ設置于所述升降底座兩側(cè)的導軌單元，所述升降底座可在所述導軌單元上下滑動；

5、同軸度調(diào)整機構(gòu)，與所述升降底座連接，所述同軸度調(diào)整機構(gòu)包括x軸調(diào)節(jié)組件和y軸調(diào)節(jié)組件，其中，所述x軸調(diào)節(jié)組件用于在x軸方向?qū)λ錾档鬃M行調(diào)節(jié)，所述y軸調(diào)節(jié)組件用于在y軸方向?qū)λ錾档鬃M行調(diào)節(jié)。

6、進一步的，還包括安裝座，所述安裝座開設有與所述導軌單元適配的導軌槽，所述導軌單元安裝于所述導軌槽內(nèi)。

7、進一步的，所述導軌單元為v型滾針導軌，所述升降底座的兩側(cè)設置有與所述v型滾針導軌適配的滑塊。

8、進一步的，所述x軸調(diào)節(jié)組件包括第一驅(qū)動組件和第一推動組件，所述第一驅(qū)動組件可在x軸方向驅(qū)動所述第一推動組件運動，所述第一推動組件與所述升降底座剛性接觸。

9、進一步的，所述第一驅(qū)動組件包括分別設置于所述升降底座左右兩側(cè)的第一驅(qū)動螺栓和第二驅(qū)動螺栓，所述第一推動組件包括分別設置于所述升降底座左右兩側(cè)的第一楔形塊和第二楔形塊；

10、所述第一驅(qū)動螺栓用于驅(qū)動所述第一楔形塊沿正向的x軸方向運動，所述第一驅(qū)動螺栓用于驅(qū)動所述第一楔形塊沿負向的x軸方向運動。

11、進一步的，所述y軸調(diào)節(jié)組件包括第二驅(qū)動組件，所述第二驅(qū)動組件可在y軸方向驅(qū)動所述升降底座運動。

12、進一步的，所述第二驅(qū)動組件包括基于y軸方向分布的第三驅(qū)動螺栓和第四驅(qū)動螺栓，所述第三驅(qū)動螺栓用于推動所述升降底座沿正向的y軸方向運動，所述第四驅(qū)動螺栓用于拉動所述升降底座沿負向的y軸方向運動。

13、進一步的，所述第三驅(qū)動螺栓與所述升降底座之間設置有第二推動組件。

14、進一步的，所述驅(qū)動機構(gòu)包括與所述升降底座連接的電動絲桿，以及與所述電動絲桿連接的驅(qū)動電機。

15、本發(fā)明實施例還提供了一種半導體設備，包括如上任一項所述的加熱臺升降裝置。

16、本發(fā)明實施例提供了一種加熱臺升降裝置，用于驅(qū)動加熱臺升降，所述加熱臺固定安裝于升降底座上，該裝置包括：驅(qū)動機構(gòu)，與所述升降底座連接，用于驅(qū)動所述升降底座上下運動；導軌機構(gòu)，包括豎向?qū)ΨQ設置于所述升降底座兩側(cè)的導軌單元，所述升降底座可在所述導軌單元上下滑動；同軸度調(diào)整機構(gòu)，與所述升降底座連接，所述同軸度調(diào)整機構(gòu)包括x軸調(diào)節(jié)組件和y軸調(diào)節(jié)組件，其中，所述x軸調(diào)節(jié)組件用于在x軸方向?qū)λ錾档鬃M行調(diào)節(jié)，所述y軸調(diào)節(jié)組件用于在y軸方向?qū)λ錾档鬃M行調(diào)節(jié)。本發(fā)明實施例通過驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動升降底座上下運動，同從而實現(xiàn)加熱臺升降操作，并且由于導軌機構(gòu)中的導軌單元對稱分布，因此可以避免由于大氣及真空狀態(tài)差異導致的驅(qū)動機構(gòu)變形，進而避免加熱臺中心的偏斜，保證工藝過程中流氣抽氣的均勻性，同時還通過同軸度調(diào)整機構(gòu)對升降底座的x軸方向和y軸方向分別進行調(diào)節(jié)，即對加熱臺的x軸方向和y軸方向分別進行調(diào)節(jié)，避免了現(xiàn)有技術(shù)采用個頂絲進行調(diào)整而導致出現(xiàn)坐標系合成的問題，由此達到增強加熱臺升降控制的效果，進而提高薄膜工藝設備的加工性能。

技術(shù)特征：

1.一種加熱臺升降裝置，用于驅(qū)動加熱臺升降，所述加熱臺固定安裝于升降底座上，其特征在于，所述裝置包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱臺升降裝置，其特征在于，還包括安裝座，所述安裝座開設有與所述導軌單元適配的導軌槽，所述導軌單元安裝于所述導軌槽內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加熱臺升降裝置，其特征在于，所述導軌單元為v型滾針導軌，所述升降底座的兩側(cè)設置有與所述v型滾針導軌適配的滑塊。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱臺升降裝置，其特征在于，所述x軸調(diào)節(jié)組件包括第一驅(qū)動組件和第一推動組件，所述第一驅(qū)動組件可在x軸方向驅(qū)動所述第一推動組件運動，所述第一推動組件與所述升降底座剛性接觸。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的加熱臺升降裝置，其特征在于，所述第一驅(qū)動組件包括分別設置于所述升降底座左右兩側(cè)的第一驅(qū)動螺栓和第二驅(qū)動螺栓，所述第一推動組件包括分別設置于所述升降底座左右兩側(cè)的第一楔形塊和第二楔形塊；

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱臺升降裝置，其特征在于，所述y軸調(diào)節(jié)組件包括第二驅(qū)動組件，所述第二驅(qū)動組件可在y軸方向驅(qū)動所述升降底座運動。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的加熱臺升降裝置，其特征在于，所述第二驅(qū)動組件包括基于y軸方向分布的第三驅(qū)動螺栓和第四驅(qū)動螺栓，所述第三驅(qū)動螺栓用于推動所述升降底座沿正向的y軸方向運動，所述第四驅(qū)動螺栓用于拉動所述升降底座沿負向的y軸方向運動。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的加熱臺升降裝置，其特征在于，所述第三驅(qū)動螺栓與所述升降底座之間設置有第二推動組件。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱臺升降裝置，其特征在于，所述驅(qū)動機構(gòu)包括與所述升降底座連接的電動絲桿，以及與所述電動絲桿連接的驅(qū)動電機。

10.一種半導體設備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-9任一項所述的加熱臺升降裝置。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種加熱臺升降裝置及半導體設備，該裝置用于驅(qū)動加熱臺升降，加熱臺固定安裝于升降底座上，裝置包括：驅(qū)動機構(gòu)，用于驅(qū)動升降底座上下運動；導軌機構(gòu)，包括豎向?qū)ΨQ設置于所述升降底座兩側(cè)的導軌單元；同軸度調(diào)整機構(gòu)，與升降底座連接，包括X軸調(diào)節(jié)組件和Y軸調(diào)節(jié)組件，X軸調(diào)節(jié)組件用于在X軸方向?qū)ι档鬃M行調(diào)節(jié)，Y軸調(diào)節(jié)組件用于在Y軸方向?qū)ι档鬃M行調(diào)節(jié)。本發(fā)明通過對稱分布的導軌單元可以避免由于大氣及真空狀態(tài)差異導致的驅(qū)動機構(gòu)變形，避免加熱臺偏斜，還通過同軸度調(diào)整機構(gòu)對升降底座的X軸方向和Y軸方向分別進行，避免坐標系合成的問題，由此達到增強加熱臺升降控制的效果，進而提高薄膜工藝設備的加工性能。

技術(shù)研發(fā)人員：姜彬,楊華龍,朱曉亮,魏有雯
受保護的技術(shù)使用者：拓荊科技（上海）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/6/26