220上升運(yùn)轉(zhuǎn)，第I運(yùn)轉(zhuǎn)部240上升移動(dòng)，連接于其的第I支撐部260上升，從而第I夾具262上升。因此，安放于第I夾具262的基板托盤W朝向卡盤122移動(dòng)并接觸，從而位置被一次固定。
[0115]在該狀態(tài)下，如圖14所示，隨著第2夾具組件300的第2長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部320上升運(yùn)轉(zhuǎn)，第2運(yùn)轉(zhuǎn)部340上升移動(dòng)，連接于其的第2支撐部360上升，從而第2夾具362上升。由此，第2夾具362把第I夾具262和基板托盤W —同向上方推動(dòng)加壓，從而使得基板托盤W二次堅(jiān)固地固定于卡盤122。
[0116]針對(duì)在室100的下部形成有等離子體的方式的等離子體處理裝置，由如上所述結(jié)構(gòu)構(gòu)成的等離子體處理裝置在室100內(nèi)部堅(jiān)固地固定基板托盤W，使得基板托盤W的周邊工序環(huán)境均一，在蝕刻作業(yè)時(shí)使出錯(cuò)實(shí)現(xiàn)最少化。
[0117]另外，提供作為用于向室100內(nèi)部移送基板托盤W的手段的盒，使得容易把裝載于盒的基板托盤W移送到室100內(nèi)，增大作業(yè)效率。
[0118]本發(fā)明就特定實(shí)施例進(jìn)行了圖示和說(shuō)明，但在不超出借助于以下權(quán)利要求書而提供的本發(fā)明的技術(shù)思想的限度內(nèi)，本發(fā)明可以多樣地改良及變化，這是所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員不言而喻的。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種等離子體處理裝置，其特征在于，包括: 室，其具備供等離子體生成的空間，在上端壁部的下端固定有卡盤；第I夾具組件，其安裝于所述室的上端壁部，配備有供基板托盤安放的第I夾具，配備得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，從而當(dāng)上升運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，使得基板托盤接觸卡盤并固定；及第2夾具組件，其安裝于所述室的上端壁部，配備得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，當(dāng)包圍所述第I夾具與基板托盤地形成的第2夾具上升運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，使得基板托盤與第I夾具一同貼緊卡盤； 所述第I夾具組件包括: 第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部，其固定安裝于所述室的上端壁部上端，長(zhǎng)度沿上下方向可變； 第I運(yùn)轉(zhuǎn)部，其位于所述第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部的上側(cè)，連接有第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部，借助于第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部而向上下移動(dòng)； 第I支撐部，其從所述第I運(yùn)轉(zhuǎn)部向下方延長(zhǎng)，貫通室的上端壁部，在延長(zhǎng)的末端，具備在室的內(nèi)部供基板托盤安放的第I夾具。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述室在上端壁部固定有卡盤，工程氣體從下端壁部向上方供應(yīng)，側(cè)端壁部的上側(cè)連接有真空栗，在下側(cè)有配備有天線。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部包括:缸，其固定于室上端壁部；活塞桿，其配備為在缸中沿上下方向升降，且連接有第I運(yùn)轉(zhuǎn)部。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第I運(yùn)轉(zhuǎn)部與室的上端壁部水平地配置，在中心連接有所述第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部，從中心呈輻射狀延長(zhǎng)形成有構(gòu)成相同長(zhǎng)度和等角的至少兩個(gè)以上的第I連接臂，并連接有第I支撐部。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第I運(yùn)轉(zhuǎn)部的第I連接臂能夠彈性彎曲地形成。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第I運(yùn)轉(zhuǎn)部從中心呈輻射狀延長(zhǎng)形成有三個(gè)第I連接臂。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第I支撐部的一端連接于第I運(yùn)轉(zhuǎn)部的第I連接臂，另一端向下方延長(zhǎng)而其末端位于比室內(nèi)部的卡盤更下側(cè)，在另一端配備有朝向室的中央以凸緣形態(tài)延長(zhǎng)的第I夾具。8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 連接于所述多個(gè)第I連接臂的各個(gè)第I支撐部，連接于以環(huán)形態(tài)形成的連接環(huán)的外周。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述連接環(huán)在第I支撐部的延長(zhǎng)的末端連接于比第I夾具更上側(cè)。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 在所述室中形成有引導(dǎo)支撐部，所述引導(dǎo)支撐部固定安裝于上端壁部的上端，向上方延長(zhǎng)，連接有第I夾具組件與第2夾具組件，從而使得第I夾具組件和第2夾具組件向相同方向升降，在延長(zhǎng)的末端配備有固定面板。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第2夾具組件包括: 第2長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部，其固定安裝于所述固定面板的下端，長(zhǎng)度沿上下方向可變； 第2運(yùn)轉(zhuǎn)部，其位于所述第2長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部的下側(cè)，連接有第2長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部，借助于第2長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部而向上下移動(dòng)； 第2支撐部，其從所述第2運(yùn)轉(zhuǎn)部向下方延長(zhǎng)，貫通室的上端壁部，在延長(zhǎng)的末端，具備在室的內(nèi)部一同包圍第I夾具與基板托盤的第2夾具。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第2長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部包括:缸，其固定于第2運(yùn)轉(zhuǎn)部；活塞桿，其配備得在缸中沿上下方向升降，連接于固定面板。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第2運(yùn)轉(zhuǎn)部與室的上端壁部水平地配置，在中心連接有所述第2長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部，從中心呈輻射狀延長(zhǎng)形成有構(gòu)成相同長(zhǎng)度和等角的至少兩個(gè)以上的第2連接臂，連接有第2支撐部。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第2運(yùn)轉(zhuǎn)部的第2連接臂能夠彈性彎曲地形成。15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第2支撐部一端連接于第2運(yùn)轉(zhuǎn)部的第2連接臂，另一端向下方延長(zhǎng)而其末端位于比第I夾具更下側(cè)，在另一端配備有以環(huán)形態(tài)形成并包圍第I夾具與基板托盤的第2夾具。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述第2夾具以環(huán)形態(tài)形成，在外周形成有供第I夾具容納的插入槽和供基板托盤安放的支撐槽。17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 在所述引導(dǎo)支撐部的固定面板上形成有向下方延長(zhǎng)并位于第I運(yùn)轉(zhuǎn)部上側(cè)的停止部，從而使得第I運(yùn)轉(zhuǎn)部在向上方過(guò)度移動(dòng)時(shí)接觸停止部并限制移動(dòng)。18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 還配備有盒模塊，所述盒模塊具備在底面兩側(cè)對(duì)稱的板，并具備: 在兩板上沿上下方向構(gòu)成多段，且朝向相互相向的方向凸出的支撐架； 放置架，其安放于所述支撐架，在中央部，以比基板托盤外周更小的外周形成有移送槽，前方以與移送槽相接的方式開(kāi)放，沿著移送槽的外周形成有供基板托盤安放的安放槽； 移送組件，其將安放于所述放置架的基板托盤移送到所述室內(nèi)而安放于第I夾具組件。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述盒模塊設(shè)有安裝于支撐架的傳感器部，所述傳感器部判斷安放于支撐架的基板托盤的有無(wú)。20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的等離子體處理裝置，其特征在于， 所述移送組件以平面形成，以便與基板托盤的下面接觸，在外周配備有防止基板托盤滑動(dòng)的橡膠墊，在中央形成有用于分散負(fù)載的分散孔。21.一種等離子體處理裝置，其特征在于，包括: 第I夾具組件，其配備有供基板托盤安放的第I夾具，配備得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，從而當(dāng)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，使得基板托盤接觸室內(nèi)的卡盤并固定；及 第2夾具組件，其與所述第I夾具組件獨(dú)立地配備，使得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，具備包圍所述第I夾具和基板托盤地形成的第2夾具，運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，使得基板托盤與第I夾具一同貼緊室內(nèi)的卡盤； 所述第I夾具組件包括: 第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部，其固定安裝于所述室的上端壁部上端，長(zhǎng)度沿上下方向可變； 第I運(yùn)轉(zhuǎn)部，其位于所述第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部的上側(cè)，連接有第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部，借助于第I長(zhǎng)度調(diào)節(jié)部而向上下移動(dòng)； 第I支撐部，其從所述第I運(yùn)轉(zhuǎn)部向下方延長(zhǎng)，貫通室的上端壁部，在延長(zhǎng)的末端，具備在室的內(nèi)部供基板托盤安放的第I夾具。
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種等離子體處理裝置，包括：室，其具備供等離子體生成的空間，在上端壁部的下端固定有卡盤；第1夾具組件，其安裝于所述室的上端壁部，配備有供基板托盤安放的第1夾具，配備得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，從而當(dāng)上升運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，使得基板托盤接觸卡盤并固定；及第2夾具組件，其安裝于所述室的上端壁部，配備得能夠在室的內(nèi)部沿上下方向升降，當(dāng)包圍所述第1夾具與基板托盤地形成的第2夾具上升運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，使得基板托盤與第1夾具一同貼緊卡盤。
【IPC分類】H01J37/32, H01L37/02
【公開(kāi)號(hào)】CN105609399
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510675845
【發(fā)明人】鄭相坤, 金亨源, 丘璜燮, 金鉉濟(jì), 鄭熙錫
【申請(qǐng)人】吉佳藍(lán)科技股份有限公司
【公開(kāi)日】2016年5月25日
【申請(qǐng)日】2015年10月19日